Product center
日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV
一liu的超低沖擊濕法微珠磨機，用于納米分散
在我們的產品線中，損傷分散小的珠磨機。針對“超低損傷納米顆粒分散體”進行了優化的濕微珠磨機，是使用φ15μm至φ50μm磁珠進行低沖擊攪拌的設備，這是一種先進的寬分離器三角磨機。
帶有新設計的平面攪拌器/珠分離轉子的濕珠磨機可實現低離心力處理。通過減小從珠粒到納米顆粒的沖擊力，同時保持珠粒的足夠的攪拌速度，在維持每單位珠粒量的加工速度的同時，對納米顆粒的損害小化。
另外，為了滿足xin的納米分散需求，轉子設計使研磨機中珠粒的攪拌能量均勻，從而可以進行均勻的分散處理。
1.可以分散gao級別超低損傷納米顆粒的珠磨機！
珠磨機，即使使用軟顆?；蚣{米顆粒的漿液，也可以進行超低沖擊處理，并且可以進行納米分散處理且損傷小。它可以用于分散軟納米顆粒，例如100 nm級鈦酸鋇和有機顏料，而傳統的珠磨機無法對其進行適當處理。
2.通過分散處理納米顆粒漿料抑制粘度和凝膠化的增加！
這是一種珠磨機，可以將由于顆粒破壞而產生的細小碎片抑制到小，即使使用納米顆粒也可以抑制漿料的粘度和凝膠化。在確保漿料的流動性和改善長期保存期間的產品漿料的穩定性方面是有效的。
3.納米粒子的粒度分布可以變得更銳利！
由于在珠磨機中的攪拌功率高度均勻，因此在漿料中的分散度均勻，并且可以抑制顆粒碎屑，因此即使使用幾十nm的納米顆粒，也可以獲得清晰的粒徑分布?？梢蕴岣弋a品性能，并且可以在批量生產條件下復制產品設計時預期的產品性能。
可用磁珠直徑
Φ15μm?Φ0.3毫米
珠粒分離器圓周速度
6m /秒至18m / s
高粘度支撐
光學材料（氧化鋯和二氧化硅在樹脂原料中的納米分散體），導電涂料，化妝品（氧化鈦和氧化鋅在油中的分散體）等。
支持低損傷擴散
電子材料（鈦酸鋇，中空二氧化硅），電極材料（納米銀，鎳等），熱射線阻擋材料（ITO等），光催化劑（氧化鈦），
液晶顏料等。
日本hiroshimamm納米分散用濕法微珠磨機ADV
| 產品名稱 | 大綱 | 可用磁珠直徑 |
|---|---|---|
| 頂點磨 | 濕式研磨珠磨機 立式濕式研磨珠磨機，可有效處理微米至亞微米級的研磨 | φ0.3毫米?φ5毫米 |
| 超尖磨機 | *yi臺 微珠磨粉機納米珠磨粉機的標準模型， 可以使用小直徑為15μm的微珠 粉，它是一種納米粉碎和納米分散的微珠磨粉機。 | φ15?1毫米 |
| 雙頂點磨 | 濕式微珠研磨機， 用于雙軸微珠研磨和納米顆粒分散，特別是用于低損傷的納米顆粒分散 | φ15?1毫米 |
| 寬分離器 Apex Mill | 高流量高粘度珠磨機 濕式微珠磨機，與使用微珠的高流速和高粘度納米顆粒分散體兼容 | φ15?0.3毫米 |
| Ultra Apex Mill Advance | 超低損傷納米分散機 高檔超低沖擊納米分散濕法微球磨機 | φ15?0.3毫米 |
| Apex Mill F＆M | 用于藥品，食品和化妝品的無 密封 珠磨機，適用于粉碎有機物質。珠磨機 省略了機械密封，以提高清潔性并防止污染， 尤其適用于納米級制藥 | φ0.1毫米?φ5毫米 |
